[发明专利]暗场显微镜在审
| 申请号： | 202080034098.6 | 申请日： | 2020-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN113795792A | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/95;G01N21/956;G03F9/00;G02B21/10 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了一种暗场量测装置，所述暗场量测装置包括物镜布置和用于阻挡所述零阶辐射的零阶阻挡件。所述物镜布置将照射引导到待测量的试样上并且从所述试样收集散射辐射，所述散射辐射包括零阶辐射和较高阶衍射辐射。所述暗场量测装置能够操作以：执行照射扫描，以使所述照射在所述最大照射角范围的至少两个不同子集的范围内进行扫描；并且同时执行检测扫描，所述检测扫描使所述零阶阻挡件和所述散射辐射之一或两者在所述照射扫描的至少一部分期间在所述最大检测角范围的相对应的子集的范围内相对于彼此进行扫描。 | ||
| 搜索关键词： | 暗场 显微镜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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