[发明专利]具有可重置沉积区域的化学气相沉积装置在审
申请号: | 202080035790.0 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN113840943A | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | R·蒙纳;T·德斯鲁 | 申请(专利权)人: | 法国原子能源和替代能源委员会 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/505;H01J37/32;C23C16/513 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人: | 王珺;卜晨 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于多个衬底上的等离子体辅助化学气相沉积的装置,包括:‑腔室(2),配置为执行等离子体辅助化学气相沉积,‑托架(4),包括n个堆叠的板(P1,P2),每个板支撑至少一个衬底,板(P1,P2)由导电材料制成并且彼此电绝缘,‑连接到腔室的气体供应和排放装置(6),‑发电机(8),‑在发电机和板之间的电连接电路(10),包括开关装置(C1、C2),使得至少在一个开关状态下,两个相邻的板具有相同的极性并且两个相邻的板具有相反的极性。 | ||
搜索关键词: | 具有 重置 沉积 区域 化学 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的