[发明专利]分析装置在审
| 申请号： | 202080036382.7 | 申请日： | 2020-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN113841041A | 公开（公告）日： | 2021-12-24 |
| 发明（设计）人： | 涩谷享司;滨内翔太;西贝大树 | 申请（专利权）人： | 株式会社堀场制作所 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31;G01N21/01;G01J3/42;G01N21/39 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李成必;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供分析装置，在从三个以上的光源向池照射光的分析装置中防止各光源的光量降低，所述分析装置具备：至少第一光源(121)、第二光源(122)以及第三光源(123)；以及将各光源(121～123)的光导向池(11)的光学系统(13)，光学系统(13)具备：第二光源用光学元件(E2)，对第一光源(121)的光进行反射，并且使第二光源(122)的光透过；以及第三光源用光学元件(E3)，对被第二光源用光学元件(E2)反射后的第一光源(121)的光以及透过第二光源用光学元件(E2)后的第二光源(122)的光进行反射，并且使第三光源(123)的光透过。 | ||
| 搜索关键词： | 分析 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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