[发明专利]用于立体光刻的可光固化组合物、使用所述组合物的立体光刻方法、通过立体光刻方法形成的聚合物组件、以及包含所述聚合物组件的装置在审
| 申请号： | 202080039856.3 | 申请日： | 2020-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN113906066A | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 特雷弗·波利多尔;迪尔克·巴尔斯;托马斯·A·库斯;布鲁斯·菲茨;穆拉利·塞瑟马达范 | 申请（专利权）人： | 罗杰斯公司 |
| 主分类号： | C08F279/02 | 分类号： | C08F279/02;C08F220/18;C08F222/14;G03F7/027;G03F7/00;C08F220/20;B29C64/106;B33Y10/00;B33Y70/10;B33Y80/00;B29K33/00;B29K35/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 梁笑;孙雅雯 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于立体光刻三维打印的可光固化组合物，其中所述可光固化组合物包含：光反应性低聚物组分，所述光反应性低聚物组分包含含有光反应性端基的疏水性低聚物；光反应性单体组分，所述光反应性单体组分包含具有光反应性端基的光反应性单体；以及光引发组合物，所述光引发组合物包含光引发剂；所述可光固化组合物的使用Brookfield粘度计确定的在22℃下的粘度为250厘泊至10,000厘泊；以及经光固化的组合物的各自在23℃下在10吉赫下通过分离式介电谐振器测试确定的介电损耗小于0.010，优选地小于0.008，更优选地小于0.006，最优选地小于0.004。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 立体 光刻 光固化 组合 使用 方法 通过 形成 聚合物 组件 以及 包含 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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