[发明专利]辐射传感器元件及方法在审

专利信息
申请号: 202080044059.4 申请日: 2020-05-26
公开(公告)号: CN113994469A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 安蒂·哈拉希尔图奈恩;尤哈·海诺宁;米科·云图宁;基娅拉·莫达内斯;托尼·帕萨宁;H·萨维恩;维莱·瓦哈尼西 申请(专利权)人: 埃尔费斯有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/0236;H01L31/0216
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 孟媛;李维凤
地址: 芬兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及一种辐射传感器元件(100),包括:半导体衬底(101),所述半导体衬底具有:主体折射率;前表面(102);基本上沿基准平面(104)延伸的后表面(103);以及多个像素部分(110)。每个像素部分(111,112)包括在后表面(103)上的收集区域(120)以及在前表面(102)上的纹理化区域(130)。纹理化区域(130)包括高深宽比纳米结构(135),高深宽比纳米结构基本上沿垂直于基准平面(104)的厚度方向延伸并且形成光转换层(136),光转换层具有向主体折射率逐渐变化的有效折射率,以减少从半导体衬底(101)的前侧入射到所述像素部分上的光的反射。
搜索关键词: 辐射 传感器 元件 方法
【主权项】:
暂无信息
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