[发明专利]量测中的不可校正误差在审
| 申请号： | 202080046768.6 | 申请日： | 2020-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN114026499A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | S·H·C·范格尔佩;A·范德布林克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于确定光刻设备的聚焦误差和/或第一量测数据与第二量测数据之间的差异的设备和方法。所述第一量测数据和/或所述第二量测数据包括与衬底相关的参数的多个值，所述衬底包括多个场，所述多个场包括器件拓扑。设备可以包括处理器，处理器被配置为执行计算机程序代码以执行方法：确定所述参数的场内分量；从所述第一量测数据移除所确定的所述场内分量，以获得所述第一量测数据的场间分量；以及基于所述场间分量和所述第二量测数据，确定所述第一量测数据与第二量测数据之间的所述差异。 | ||
| 搜索关键词： | 中的 不可 校正 误差 | ||
【主权项】：
暂无信息
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