[发明专利]利用卤化物化学品的光致抗蚀剂显影在审
| 申请号： | 202080046943.1 | 申请日： | 2020-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN114026501A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 萨曼莎·西亚姆华·坦;游正义;李达;范译文;潘阳;杰弗里·马克斯;理查德·A·戈奇奥;丹尼尔·彼得;蒂莫西·威廉·威德曼;鲍里斯·沃洛斯基;杨文兵 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | G03F7/36 | 分类号： | G03F7/36;G03F7/40;G03F7/16;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 光致抗蚀剂的显影对于例如用于在高分辨率图案化的背景下形成图案化掩模会是有用的。显影可使用例如卤化氢之类的含卤化物化学品而完成。使用干式或湿式沉积技术可在半导体衬底上沉积含金属抗蚀剂膜。该光致抗蚀剂膜可以是EUV敏感的含有机金属氧化物或含有机金属薄膜抗蚀剂。在暴露后，使用湿式或干式显影将经光图案化的含金属抗蚀剂进行显影。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 卤化物 化学品 光致抗蚀剂 显影 | ||
【主权项】：
暂无信息
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