[发明专利]形成液态硅的装置和方法在审
| 申请号： | 202080048895.X | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN114026043A | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | C·施密德;G·佩特里克;J·哈恩;P·费纳格 | 申请（专利权）人： | 施米德硅晶片科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B33/027 | 分类号： | C01B33/027;C01B33/029;B01J19/00;H05H1/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 章敏;初明明 |
| 地址： | 德国弗罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及形成液态硅的装置，其包括用于将气体转化为高度加热的状态的设备，在该状态下所述气体至少部分以等离子体的形式存在。所述高度加热的气体引入反应空间(100)，在那里其与气态或颗粒状的含硅原料接触。该含硅原料通过具有直接通入反应空间(100)的喷嘴通道(103)的喷嘴(102)供应到反应空间(100)中。同时，将惰性气体引入反应空间(100)，以使得其保护喷嘴通道(103)的通入孔口(103a)免受源于高度加热的气体的热负荷。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 液态 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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