[发明专利]具有介电层的半导体结构元件在审

专利信息
申请号: 202080049174.0 申请日: 2020-06-23
公开(公告)号: CN114080697A 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: T·沙里;J·托马斯科;D·蒙泰罗迪尼斯雷斯;D·潘特尔;F·沙茨;M·梅夫斯 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H01L41/187 分类号: H01L41/187;H01L41/08;H01L41/316
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 郭毅
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种半导体结构元件(200),所述半导体结构元件包括至少一个介电层(230)以及至少一个第一电极(202)和第二电极(201)。附加地,在所述介电层(230)中存在至少两种彼此不同的缺陷类型(212,215,217)。所述至少两种彼此不同的缺陷类型(212,215,217)根据在所述第一电极(202)与所述第二电极(201)之间施加的运行电压和当前的运行温度沿着分别具有平均有效间距a0(210)的局部缺陷状态(235)向着所述两个电极(202,210)中的一个电极运动。在此,对于所述平均有效间距a0(210)适用的是,所述平均有效间距大于3.2nm。
搜索关键词: 具有 介电层 半导体 结构 元件
【主权项】:
暂无信息
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