[发明专利]Fe-Pt-BN系溅射靶及其制造方法在审
| 申请号： | 202080049423.6 | 申请日： | 2020-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN114072536A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 西浦正纮;山本孝充;黑濑健太;小林弘典;宫下敬史 | 申请（专利权）人： | 田中贵金属工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C22C32/00;C22C30/00;B22F3/14;C22C30/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 盛曼;金龙河 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过与现有方法不同的方法来解决具有高相对密度的Fe‑Pt‑BN系溅射靶的颗粒产生的问题。一种Fe‑Pt‑BN系溅射靶，其具有90％以上的相对密度，维氏硬度为150以下，能够抑制磁控溅射时的颗粒产生数。 | ||
| 搜索关键词： | fe pt bn 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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