[发明专利]平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出在审
| 申请号： | 202080052855.2 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN114402411A | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | R·K·O·贝林;S·霍尔茨阿普费尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | H01J35/14 | 分类号： | H01J35/14;A61B6/00;H05G1/58 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提出了一种用于生成第一能谱和第二能谱的X射线辐射的X射线源(100)，其中，与常规的X射线源相比，所述第一能谱与所述第二能谱之间的X射线强度不平衡被减小。与当施加较低的管电压时相比，通过在施加较高的管电压时配置较小的撞击到阳极(102)上的电子撞击角度(141)来实现对所述X射线强度不平衡的所述减小。 | ||
| 搜索关键词： | 平衡 针对 能量 射线 成像 系统 输出 | ||
【主权项】：
暂无信息
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