[发明专利]化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法、以及含碘乙烯基聚合物及其乙酰化衍生物的制造方法在审
| 申请号： | 202080056621.5 | 申请日： | 2020-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN114245792A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 大松祯;片冈健太郎;松本正裕;新美结士;牧野岛高史;越后雅敏 | 申请（专利权）人： | 三菱瓦斯化学株式会社 |
| 主分类号： | C07C69/712 | 分类号： | C07C69/712;C07C39/27;C07C25/24;C07C69/96;C07C39/373;C07C49/825;C07C69/157;C07C37/62;C07C67/08;C07C45/63;C07C17/35;C07C37/00;C08F12/16;C08J |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种化合物，其具有不饱和双键和一个以上的卤素。一种含碘乙烯基单体的制造方法，其包括：a)准备具戊酰基有式(1‑1)所示的一般结构(式(1‑1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘醇性基质的工序；和b)对所述含碘醇性基质进行脱水，得到具有式(1)所示的一般结构(式(1)中的可变部分的定义如说明书所记载)的含碘乙烯基单体的工序。 |
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| 搜索关键词： | 化合物 聚合物 组合 形成 图案 方法 绝缘 制造 以及 乙烯基 及其 乙酰化 衍生物 | ||
【主权项】：
暂无信息
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