[发明专利]用于集成装置的光学奈米结构抑制器及其方法在审
| 申请号： | 202080056842.2 | 申请日： | 2020-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN114222911A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 阿里·卡比里;沈冰;詹姆斯·比奇;凯尔·普雷斯顿;杰勒德·施密德 | 申请（专利权）人： | 宽腾矽公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01N21/77;H01L27/146;C12Q1/6869;B82Y20/00;G02B1/00;G02B5/28;G02B6/122 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 谭营营;王天鹏 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述了与光子带隙光学奈米结构相关的设备及方法。此等光学奈米结构可展现禁止光子带隙或允许光子带隙，且可用于抑制(例如，阻断或衰减)第一波长下的辐射，同时允许透射第二波长下的辐射。光子带隙光学奈米结构的示例包括在一个、两个或三个维度中具有周期性或准周期性且在至少两个维度中具有结构变化的周期性及准周期性结构。此等光子带隙光学奈米结构可形成于包括光电二极管及被布置为分析由光电二极管接收的辐射的CMOS电路的集成装置中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 集成 装置 光学 结构 抑制器 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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