[发明专利]粒子线治疗系统以及磁共振成像装置在审
| 申请号： | 202080062050.6 | 申请日： | 2020-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN114340729A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 藤井祐介;青木学;梅泽真澄 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G01R33/42;G01R33/48 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金成哲;宋春华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种搭载有MRI装置的粒子线照射系统，能够将粒子线监视器接近MRI装置配置。具有：床(24)，其搭载照射目标(26)；照射装置(21)，其朝向照射目标照射粒子线；以及磁共振成像装置(150)，其拍摄照射对象(25)的图像。磁共振成像装置(150)具备：磁铁(50)，其在配置有照射目标(26)的摄像空间(55)产生静磁场；以及磁轭(60)，其配置于摄像空间(55)以外，供磁铁(50)产生的磁场的磁通通过。从摄像空间(55)观察，照射装置(21)配置于磁轭(60)的背面侧，从设置于磁轭(60)的贯通孔或设置于磁轭的间隙向照射目标照射粒子线。粒子线进入摄像空间的方向与由磁铁对摄像空间施加的静磁场的朝向交叉。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子 治疗 系统 以及 磁共振 成像 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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