[发明专利]用于电镀单元的低角度膜框架在审
| 申请号： | 202080062180.X | 申请日： | 2020-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN114341404A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 弗雷德里克·迪恩·威尔莫特;罗伯特·拉什;尼马尔·尚卡尔·西格玛尼;加布里埃尔·格拉哈姆 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | C25D17/00 | 分类号： | C25D17/00;C25D21/00;C25D7/12 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种处理衬底的单元包括至少一个室壁、膜框架和膜。至少一个室壁布置成在衬底的保持器下方形成腔体。膜框架设置在至少一个室壁上并横跨腔体。膜由膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开。膜包括从腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中该角度大于或等于0°且小于或等于3°。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电镀 单元 角度 框架 | ||
【主权项】：
暂无信息
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