[发明专利]于工艺腔室表面或部件上形成保护涂层的方法在审

专利信息
申请号: 202080062730.8 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN114375348A 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 吉蒂卡·巴贾;尤吉塔·巴瑞克;普莉娜·松特海利亚·古拉迪雅;安库尔·凯达姆 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;C23C16/455;H01J37/32
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本揭露内容的实施方式提供在工艺腔室表面和/或部件上制造或以其他方式形成包含氧化铈的保护涂层的方法,工艺腔室表面和/或部件例如是暴露于工艺腔室内的等离子体的表面。在一个或多个实施方式中,在工艺腔室内形成保护涂层的方法包括在原子层沉积(ALD)工艺期间将氧化铈层沉积在腔室表面或腔室部件上。ALD工艺包括在一个ALD周期中,将腔室表面或腔室部件依次暴露于铈前驱物、净化气体、氧化剂和净化气体,以及重复ALD周期以沉积氧化铈层。
搜索关键词: 工艺 表面 部件 形成 保护 涂层 方法
【主权项】:
暂无信息
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