[发明专利]等离子体处理系统和等离子体处理方法在审

专利信息
申请号: 202080069621.9 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN114503239A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 弗兰克·梅;伯恩哈德·科德;西蒙·赫布纳;彼得·沃尔法特 申请(专利权)人: 新格拉斯科技集团
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;C23C16/52;C23C16/505;C23C16/50
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;吴启超
地址: 德国美茵河畔卡勒*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种处理系统(100)具有用于对至少一个基板进行动态或静态处理的处理室(101)。一种电感耦接等离子体源ICP源(120、120')包括:至少一个电感器(130a、130b),所述至少一个电感器(130a、130b)沿所述ICP源(120、120')的纵向方向延伸;供气装置(141、142),所述供气装置(141、142)用于一种或多种处理气体;以及设置在所述处理室(101)中的气体引导布置(150),所述气体引导布置(150)沿所述ICP源(120、120')的所述纵向方向延伸并且部分地围绕所述至少一个电感器(130a、130b)。
搜索关键词: 等离子体 处理 系统 方法
【主权项】:
暂无信息
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