[发明专利]用于光刻成像的方法和设备在审
| 申请号： | 202080070209.9 | 申请日： | 2020-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN114503035A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | M·F·沙伊甘萨拉克;拉斐尔·C·豪厄尔;郑羽南;尉海清;曹宇 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种使用光刻系统模拟待成像于衬底上的图案的方法，所述方法包括：获得待成像于所述衬底上的图案；使所述图案平滑化；以及模拟平滑化的图案的图像。所述平滑化可以包括应用图形低通滤波器，并且所述模拟可以包括应用来自边缘滤波器库的边缘滤波器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 成像 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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