[发明专利]基片清洗装置和基片清洗方法在审
| 申请号： | 202080073722.3 | 申请日： | 2020-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN114585454A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 中岛常长;饱本正巳 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B08B5/02 | 分类号： | B08B5/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;刘芃茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明能够防止从基片除去的颗粒再次附着于基片。本发明的基片清洗装置包括：保持基片的基片保持部；气体喷嘴，其对基片保持部上的基片喷射清洗气体；和以包围气体喷嘴的方式设置的喷嘴罩。从气体喷嘴对喷嘴罩的减压室内喷射清洗气体，在减压室内生成除去基片上的颗粒的气体团簇。气幕用气体被从喷嘴罩的端部喷射向基片侧，在喷嘴罩的端部与基片之间形成气幕。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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