[发明专利]防反射结构体及其制造方法在审
| 申请号： | 202080077166.7 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114641709A | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 栗原一真;穂苅辽平;福井博章 | 申请（专利权）人： | 国立研究开发法人产业技术综合研究所;东亚电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;B32B3/30;B32B7/023;B32B9/00;C03C17/245;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 褚瑶杨;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的防反射结构体在透明的基材(B)的表面部(S)和从各孔(Hn)的底部起的上部方向的空间部(Cn)配置有金属氧化物膜，该透明的基材(B)形成有多个与平坦的表面垂直的方向的截面形状为U字状或V字状的孔(Hn)，关于该各孔(Hn)的形状，开口部的平均直径(m)为50～300nm，与相邻的该开口部之间的各中心点的平均间隔(k)为100～400nm，并且，以表面部(S)为基准的各孔(Hn)的深度(dn)为80～250nm的范围，在该防反射结构体中，配置于各空间部(Cn)的金属氧化物膜的厚度(tn)随着各孔(Hn)的深度(dn)变深而增加，由此，从配置于上述表面部(S)的金属氧化物膜的最表面部(Sm)至配置于各空间部(Cn)内的金属氧化物膜的表面部的各孔(Hn)间的深度(fn)之差减少。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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