[发明专利]用于清洁光刻设备的部分的系统在审
| 申请号： | 202080077444.9 | 申请日： | 2020-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN114641732A | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·保罗·罗达克 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 所描述的系统包括清洁工具。所述清洁工具被配置为以第一配置插入光刻设备中，由所述光刻设备的工具处置器接合，并且用于清洁所述光刻设备的部分。所述清洁工具被配置为在由所述工具处置器接合之后从所述第一配置移动至扩展的第二配置，使得所述清洁工具在用于清洁所述光刻设备的所述部分时处于所述第二配置。所述系统包括容器，所述容器被配置为容纳处于所述第一配置的所述清洁工具并且装配至所述光刻设备中。所述清洁工具被配置为在所述容器中插入所述光刻设备中，由所述工具处置器从所述容器移出以用于所述清洁，并且在所述清洁之后借助于所述工具处置器返回至所述容器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 光刻 设备 部分 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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