[发明专利]多源照射装置在审

专利信息
申请号: 202080082809.7 申请日: 2020-11-19
公开(公告)号: CN114762076A 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: S·W·H·K·斯蒂恩布林克;M·J-J·维兰德;A·V·G·曼格努斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: H01J37/28 分类号: H01J37/28
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 赵林琳;杨飞
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文中公开了一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置,该装置包括多个源(401),该多个源各自被布置为发射带电粒子射束;聚光透镜(403),该聚光透镜被布置为从多个源接收射束;以及操纵器阵列布置(404、405),该操纵器阵列布置被配置为接收已经穿过聚光透镜的射束。射束被布置为使得:在聚光透镜的平面处,来自至少一个源的射束与来自多个源中的不同的一个源的另一射束的至少一部分相交。聚光透镜被配置为分开地大致准直从每个源接收的射束。操纵器阵列布置被配置为操纵已经被聚光透镜大致准直的射束,从而以单列的形式生成包括来自多个源的带电粒子的一个或多个射束。操纵器阵列布置包括偏转器阵列(404)和多射束生成器(405),偏转器阵列被布置为偏转已经被所述聚光透镜大致准直的所述射束,从而生成包括来自多个源的带电粒子的多个大致平行的经大致准直的射束,其中多射束生成器被配置为:接收由偏转器阵列生成的多个大致平行的经大致准直的射束;以及依据所接收的多个大致平行的经大致准直的射束,生成多射束,其中多射束包括多个经大致准直的子射束。
搜索关键词: 照射 装置
【主权项】:
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