[发明专利]用于增强成像到衬底上的图案的目标特征的方法和系统在审
| 申请号： | 202080083808.4 | 申请日： | 2020-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN114787715A | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | W·E·康利;徐端孚 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了增强被成像到衬底上的图案的目标特征。这可以包括在与一图案形成装置中的一个或更多个目标特征相邻的一个或更多个部位中将一个或更多个辅助特征添加到所述图案形成装置。基于所述衬底中的两个或更多个不同聚焦位置来添加所述一个或多个辅助特征。这也包括基于所述两个或更多个不同聚焦位置以及所添加的一个或更多个辅助特征来移位所述图案形成装置图案和/或设计布局。这可能对于改善跨狭缝不对称性是有用的。将所述一个或更多个辅助特征添加到所述图案并且移位所述图案和/或所述设计布局，通过减少由针对多焦点光刻成像设备的狭缝的跨狭缝不对称性所引起的移位来增强所述目标特征。这可以减少跨越整个成像场的所述移位。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 增强 成像 衬底 图案 目标 特征 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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