[发明专利]量测方法和相关联的量测和光刻设备在审
| 申请号： | 202080087952.5 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN114868084A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | P·A·J·廷纳曼斯;I·M·P·阿蒂斯;K·巴塔查里亚;R·布林克霍夫;L·J·卡尔塞迈耶尔;S·C·J·A·凯吉;H·V·考克;S·G·J·马西森;H·J·L·梅根斯;S·U·雷曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 披露了一种涉及测量衬底上的结构的量测方法，所述结构经受一个或更多个不对称偏差。所述方法包括：获得与不对称偏差相关的至少一个强度不对称性值，其中至少一个强度不对称性值包括与由所述结构衍射的辐射的至少两个衍射阶的各自的强度或幅度之间的差异或不平衡性相关的指标；基于所述至少一个强度不对称性值确定与所述一个或更多个不对称偏差相对应的至少一个相位偏移值；以及根据所述一个或更多个相位偏移确定针对所述一个或更多个不对称偏差的一个或更多个测量校正。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 相关 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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