[发明专利]含有稀土的SiC基板和SiC外延层的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080089055.8 申请日: 2020-01-24
公开(公告)号: CN114901875A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: 松岛洁;渡边守道;吉川润 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: C30B25/20 分类号: C30B25/20;H01L21/20;H01L21/203;H01L21/205;C30B29/36
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 日本国爱知*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: SiC复合基板(10)具备SiC单晶层(20)和含有稀土的SiC层(30)。含有稀土的SiC层(30)含有稀土元素,该稀土元素的浓度在1×1016原子/cm3以上且1×1019原子/cm3以下的范围内。由于将稀土元素的浓度设定在该范围内,因此能够充分地降低在含有稀土的SiC层(30)上生长的SiC外延层的BPD密度。
搜索关键词: 含有 稀土 sic 外延 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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