[发明专利]通过等离子体频谱在动态等离子体条件下的过程控制和监控方法在审
| 申请号： | 202080098883.8 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN115428117A | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 陈威廷;张巧颖;杨晓玲;朴范洙;崔永镇;崔寿永 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的某些方面提供了用于通过等离子体频谱在动态等离子体提升条件下进行过程控制和监控的技术、系统和方法。在一些情况下，在给定腔室的等离子体提升条件期间收集多轮改变的等离子体强度数据，并且求出代表该改变的等离子体强度数据的统计值。根据该数据，求出统计过程控制(SPC)轨迹。获取来自随后的等离子体提升条件的改变的等离子体强度数据，并将该数据与SPC轨迹比较，以确定何时出现异常(例如外部气体、颗粒物或其他污染物)。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 等离子体 频谱 动态 条件下 过程 控制 监控 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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