[发明专利]用于制造经还原的氧化石墨烯的方法在审
| 申请号： | 202080107025.5 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN116419908A | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 蒂·坦·吴;阿娜·阿雷纳斯比沃;大卫·诺列加佩雷斯;罗伯托·苏亚雷斯桑切斯 | 申请（专利权）人： | 韦尔迪西奥解决方案A.I.E.公司 |
| 主分类号： | C01B32/192 | 分类号： | C01B32/192 |
| 代理公司： | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人： | 李建航;岳宁 |
| 地址： | 西班牙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于由基什石墨制造经还原的氧化石墨烯的方法，所述方法包括：提供基什石墨，在室温下用过硫酸盐和酸对基什石墨进行插层以获得插层的基什石墨，使插层的基什石墨在室温下膨胀以获得膨胀的基什石墨，在膨胀步骤期间产生的气体仍然至少部分地存在的同时，将膨胀的基什石墨与至少酸和氧化剂混合使得膨胀的基什石墨同时被氧化、剥离并还原为经还原的氧化石墨烯。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 还原 氧化 石墨 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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