[其他]一种用于半导体制造的洁净室系统有效
| 申请号： | 202090000508.0 | 申请日： | 2020-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN218132543U | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 唐万福;赵晓云;王大祥;段志军;邹永安;奚勇 | 申请（专利权）人： | 上海必修福企业管理有限公司 |
| 主分类号： | B03C3/40 | 分类号： | B03C3/40;B01D46/00;B03C3/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201112 上海市闵*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种用于半导体制造的洁净室系统(100)，所述洁净室系统(100)包括洁净室(101)、电场除尘系统(102)；所述洁净室(101)包括气体入口；所述电场除尘系统(102)包括除尘系统出口、电场装置(1021)；所述洁净室(101)的气体入口与所述电场除尘系统(102)的除尘系统出口连通；所述电场装置(1021)包括电场装置入口(1011)、电场装置出口、电场阴极(10142)和电场阳极(10141)，所述电场阴极(10142)和所述电场阳极(10141)用于产生电离电场，所述电场阳极(10141)长度为10‑180mm。其能有效除去半导体制造行业中的颗粒物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 制造 洁净室 系统 | ||
【主权项】：
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