[发明专利]一种ALD镀膜设备在审
申请号: | 202110001842.9 | 申请日: | 2021-01-04 |
公开(公告)号: | CN112853317A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 刘依婷;吴梓岚;万军;蔡晋辉;曾九孙 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310018 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种ALD镀膜设备,包括进料装置、镀膜装置,所述进料装置包括升降液压缸、密封圆板,电机安装槽,电机,转轴,载料台,样品槽,弹簧,屏蔽罩,弹簧固定板,所述镀膜装置包括外腔体,内腔体,前躯体存储器,导管,匀气圆板,进气法兰,出气法兰,所述升降液压缸安装在外腔体底面,密封圆板固定在升降液压缸的活塞杆上,电机安装槽与密封圆板固定连接,电机固定在电机安装槽内部,电机转子通过联轴器与转轴相连,载料台固定在转轴上,所述前躯体存储器固定在外腔体侧面,进气法兰和出气法兰均安装在外腔体侧面,与外腔体和内腔体侧面的通孔相连。将待镀样品固定在样品槽内部,通过电机旋转依次对样品进行如下循环操作:通入前躯体A,吹扫氮气,通入前躯体B,吹扫氮气,整个镀膜过程高效有序。 | ||
搜索关键词: | 一种 ald 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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