[发明专利]一种ALD镀膜设备在审

专利信息
申请号: 202110001842.9 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN112853317A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 刘依婷;吴梓岚;万军;蔡晋辉;曾九孙 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种ALD镀膜设备,包括进料装置、镀膜装置,所述进料装置包括升降液压缸、密封圆板,电机安装槽,电机,转轴,载料台,样品槽,弹簧,屏蔽罩,弹簧固定板,所述镀膜装置包括外腔体,内腔体,前躯体存储器,导管,匀气圆板,进气法兰,出气法兰,所述升降液压缸安装在外腔体底面,密封圆板固定在升降液压缸的活塞杆上,电机安装槽与密封圆板固定连接,电机固定在电机安装槽内部,电机转子通过联轴器与转轴相连,载料台固定在转轴上,所述前躯体存储器固定在外腔体侧面,进气法兰和出气法兰均安装在外腔体侧面,与外腔体和内腔体侧面的通孔相连。将待镀样品固定在样品槽内部,通过电机旋转依次对样品进行如下循环操作:通入前躯体A,吹扫氮气,通入前躯体B,吹扫氮气,整个镀膜过程高效有序。
搜索关键词: 一种 ald 镀膜 设备
【主权项】:
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