[发明专利]一种蓝宝石基GaN准垂直肖特基二极管反向漏电改善方法及肖特基二极管在审

专利信息
申请号: 202110004369.X 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN112838130A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 耿莉;刘江;杨明超;刘卫华;郝跃 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L21/329;H01L21/324
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 高博
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种蓝宝石基GaN准垂直肖特基二极管反向漏电改善方法及肖特基二极管,在蓝宝石基GaN样品上制备光刻胶腌膜;然后采用感应耦合等离子干法刻蚀工艺在制备有光刻胶腌膜的蓝宝石基GaN样品上进行刻蚀操作,直到刻蚀到n+GaN层;再对刻蚀后的蓝宝石基GaN样品进行低温快速热退火处理,修复刻蚀损伤;然后采用光刻和电子束工艺在快速热退火处理后的蓝宝石基GaN样品上蒸镀Ti/Al/Ni/Au金属层;再进行高温快速热退火处理形成相应的欧姆接触;采用电子束进行Ni/Au肖特基接触制备。本发明能够快速、高效的在Ar环境下修复GaN台面刻蚀后的损伤,且修复效果明显。
搜索关键词: 一种 蓝宝石 gan 垂直 肖特基 二极管 反向 漏电 改善 方法
【主权项】:
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