[发明专利]半导体存储装置在审
| 申请号： | 202110006529.4 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN113506808A | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 奥山清 | 申请（专利权）人： | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/11573 | 分类号： | H01L27/11573 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 实施方式提供一种在动作时序、施加电压不同的晶体管阵列区域彼此之间缓和电位差的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具有衬底、第1杂质区域、第2杂质区域、第1晶体管、第3杂质区域、第4杂质区域、第2晶体管、以及活性区域。第1导电型的第1杂质区域、第2杂质区域、第3杂质区域、第4杂质区域、活性区域设置在衬底上。第1杂质区域与第2杂质区域在第1方向上隔开。第1晶体管在第1杂质区域与第2杂质区域之间包含第1电极。第3杂质区域与第1杂质区域在第2方向上隔开。第4杂质区域与第3杂质区域在第1方向上隔开。第2晶体管在第3杂质区域与第4杂质区域之间包含第2电极。活性区域设置在第1晶体管与第2晶体管之间。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 存储 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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