[发明专利]微米级束流分布的测试方法及装置有效
| 申请号： | 202110010462.1 | 申请日： | 2021-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN112835091B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 孙浩翰;郭刚;刘建成;许谨诚;沈东军;史淑廷;惠宁 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29 |
| 代理公司： | 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 | 代理人： | 王鹏鑫 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种微米级束流分布的测试方法及装置，方法包括：对固体径迹探测器的表面进行坐标标记，沿预设方向在表面依次形成基准区域、至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，记录各区域的坐标位置；根据坐标位置，采用微束束流照射至少一个定位束斑阵列区域及目标束斑阵列区域，其中，照射后，沿基准区域指向目标束斑阵列区域的方向，各区域中束斑的尺寸依次递减；对微束束流照射后的固体径迹探测器的表面进行刻蚀，将微束束流的分布转化为固体径迹探测器表面上离子径迹的分布；根据基准区域、至少一个定位束斑阵列区域在刻蚀后的表面定位目标束斑阵列区域中的目标束斑，统计目标束斑的二维分布。该装置及方法可直观获得微束离子径迹分布。 | ||
| 搜索关键词： | 微米 级束流 分布 测试 方法 装置 | ||
【主权项】：
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