[发明专利]色散阵列及其制造方法在审
| 申请号： | 202110012749.8 | 申请日： | 2021-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN113138021A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 拉德瓦努尔·哈桑·斯迪克;丹尼尔·阿桑姆普考 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02;G01J3/28 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;薛义丹 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
提供了一种色散阵列及其制造方法。光学光谱仪可以用来确定电磁波的光谱分量。光谱仪可以是大型、体积庞大的装置，并且为了记录测量值，可能需要波以几乎直角的入射进入。公开了一种采用光色散技术的具有纳米光子组件超紧凑型光谱仪。纳米光子组件可以包含超表面和布拉格滤波器。每个超表面可以包含可以被随机化以产生大输入角的光散射纳米结构，布拉格滤波器可以导致与输入角度无关的光色散。光谱仪可以能够处理约200nm的带宽。超紧凑型光谱仪可以能够读取可见光(400nm至600nm)内的图像数据，并且能够读取近红外(700nm至900nm)波长范围内的光谱数据。光谱仪的表面积可以为约1mm |
||
| 搜索关键词： | 色散 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社，未经三星电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110012749.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
