[发明专利]偏光板、光学设备和偏光板的制造方法在审

专利信息
申请号: 202110014151.2 申请日: 2021-01-06
公开(公告)号: CN113189690A 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: 高桥浩幸;武田吐梦 申请(专利权)人: 迪睿合株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/115;G02F1/1335
代理公司: 北京挚诚信奉知识产权代理有限公司 11338 代理人: 徐月;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种偏光板、光学设备和偏光板的制造方法。本发明的目的在于提供透过轴透过率高的偏光板和光学设备。该偏光板是具有线栅结构的偏光板,具有透明基板、层叠于上述透明基板的第一面的第一防反射层、从上述第一防反射层突出的多个凸部和层叠于与上述第一面相反的第二面的第二防反射层,上述多个凸部以比使用频带的光的波长更短的间距周期性排列,各个凸部在第一方向上延伸、且从上述第一面开始依次具有反射层、电介质层和吸收层,上述第一防反射层和上述第二防反射层具有交替层叠的高折射率层和低折射率层。
搜索关键词: 偏光 光学 设备 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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