[发明专利]一种超薄一维有机单晶阵列薄膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202110030859.7 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN112786785B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 张钰;吴雨辰;江雷 申请(专利权)人: 季华实验室
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/30;H01L51/05
代理公司: 佛山市海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377 代理人: 陈志超;唐敏珊
地址: 528200 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种超薄一维有机单晶阵列薄膜及其制备方法和应用,包括以下步骤:(1)在基底上滴加第一有机半导体溶液;(2)取表面刻蚀有硅柱的另一氧化硅片,将刻蚀有硅柱的一面覆盖在第一有机半导体溶液之上,在50‑120℃下加热;(3)滴加第二有机半导体溶液,第二有机半导体溶液覆盖基底,在50‑120℃下加热。采用本发明所提供的制备方法得到的超薄一维有机单晶阵列薄膜,厚度薄,取向度好,有利于工业化大规模生产应用。
搜索关键词: 一种 超薄 有机 阵列 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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