[发明专利]一种面向增材制造的磁-结构多物理场拓扑优化设计方法有效
| 申请号： | 202110031589.1 | 申请日： | 2021-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN112685945B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 白影春;王子祥 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23 |
| 代理公司： | 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙) 11457 | 代理人： | 黄云铎;孙红颖 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种面向增材制造的磁‑结构多物理场拓扑优化设计方法，包括：步骤10，结合待打印物体的单元打印密度，基于结构场和磁场材料插值模型和有限元分析方法，分析获得结构位移矢量和磁场矢量，据此建立目标函数，并结合体积约束条件，建立磁‑结构多物理场拓扑优化模型；步骤20，根据磁‑结构多物理拓扑优化模型，结合目标函数和约束对单元设计密度灵敏度，通过MMA算法对单元设计密度空间进行迭代更新，当判定磁‑结构多物理场拓扑优化模型中目标函数的相对误差小于预设阈值时，根据更新后的单元设计密度空间对待打印物体进行打印。通过本申请中的技术方案，在兼顾磁场和结构场性能的同时，实现了结构的自支撑打印，避免了支撑材料的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 面向 制造 结构 物理 拓扑 优化 设计 方法 | ||
【主权项】：
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