[发明专利]发光装置在审

专利信息
申请号: 202110034902.7 申请日: 2021-01-12
公开(公告)号: CN113206207A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 大卫·詹姆斯·蒙哥马利;蒂姆·米迦勒·斯米顿 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/50
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 叶乙梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发光装置通过沿着堤结构采用反射光学腔改善光提取以具有增强的光输出。该发光装置包括:堤结构;发射腔,设置在该堤结构内;填充材料层,设置在该堤结构内并且位于该发射腔的发光侧上;以及反射光学腔,沿着该堤结构面向该填充材料层的内表面设置。该反射光学腔被配置为将被该填充材料层的发光侧表面内反射并入射到该反射光学腔上的光外耦合。反射光学腔包括由非导电电介质层分开的第一导电层和第二导电层。第一导电层抵靠堤构造的内表面配置,第二导电层抵靠与堤结构的内表面相对的填充材料层设置。发射腔包括设置在第一电极层和第二电极层之间的发光层,第一导电层配置为第一电极层的延伸部,第二导电层配置为第二电极层的延伸部。
搜索关键词: 发光 装置
【主权项】:
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