[发明专利]一种真空微波精炼工业硅制备6N多晶硅的方法及装置有效
申请号: | 202110039307.2 | 申请日: | 2021-01-12 |
公开(公告)号: | CN112624122B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 戴永年;栗曼 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037;H01L31/18 |
代理公司: | 昆明人从众知识产权代理有限公司 53204 | 代理人: | 李晓亚 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: |
本发明公开一种真空微波精炼工业硅制备6N多晶硅的方法及装置,将工业硅熔体流入一次氧化精炼炉中,通入混合气体Ⅰ,加入SiO |
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搜索关键词: | 一种 真空 微波 精炼 工业 制备 多晶 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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