[发明专利]卧式光学连续磁控溅射镀膜设备在审
| 申请号： | 202110045992.X | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN112899635A | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 肖山 | 申请（专利权）人： | 东莞市一粒米薄膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35 |
| 代理公司： | 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 | 代理人： | 田丽丽 |
| 地址： | 523808 广东省东莞市松山湖高新技*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种卧式光学连续磁控溅射镀膜设备，包括进片室、进片锁定室、若干真空镀膜室、出片锁定室以及出片室；相邻两真空镀膜室之间设有第一真空过渡室，且第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间。由于第一真空过渡室的真空度大小位于与其相邻的两真空镀膜室内的真空度之间，因此待加工件从一个真空镀膜室移动至另一个真空镀膜室的时候，由于第一真空过渡室的缓冲作用，不会使待加工件直接由一个低真空度的环境中跳跃到高真空度的环境中，也不会使待加工件直接由一个高真空度的环境中跳跃到低真空度的环境中，而是逐渐减小或逐渐增加，使本发明的卧式光学连续磁控溅射镀膜设备镀膜更加稳定，所镀的膜也更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 卧式 光学 连续 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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