[发明专利]一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法在审
| 申请号： | 202110046632.1 | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN112596349A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;丁晨良;温积森;徐良 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人： | 奚丽萍 |
| 地址： | 310023 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于多点阵产生和独立控制的双光子并行直写装置及方法，主要包含三个核心元件：数字微镜阵列DMD、空间光调制器SLM和微透镜阵列MLA，DMD将有效像素区域等分成N×N个单元，一个单元对应一个光斑，对DMD每个单元包含的m×m个微镜进行独立开关，实现各单元光斑强度和均匀度的独立调控；SLM将有效像素区域等分成N×N个单元，并与入射的各单元光斑一一对应并独立进行相位控制；MLA用于生成焦点阵列，其微透镜数N×N决定了点阵的数量，该点阵随后经凸透镜和物镜成像到物镜焦平面上进行加工，该装置与方法具有灰度光刻的功能，能够快速加工任意形状且高均匀度的曲面结构及真三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 多点 产生 独立 控制 光子 并行 装置 方法 | ||
【主权项】：
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