[发明专利]一种改善光刻胶与晶圆粘附性的方法在审
| 申请号： | 202110048723.9 | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN112698553A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 马阳阳;张东宏;李宝军 | 申请（专利权）人： | 陕西彩虹新材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/40;G03F7/30;G03F7/20;G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京卓特专利代理事务所(普通合伙) 11572 | 代理人： | 段宇 |
| 地址： | 712021 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改善光刻胶与晶圆粘附性的方法，其特征在于：包括对超纯水清洗后晶圆进行预烘烤，对光刻胶样品进行水浴放置以及在涂覆光刻胶前，设定程序预先手动喷雾光刻胶对应的溶剂溶液，然后吸取一定量光刻胶对烘烤后的晶圆进行涂覆；对涂覆有光刻胶的晶圆进行曝光处理；对曝光后的晶圆进行曝光后烘烤；对曝光后烘烤的晶圆进行室温冷却处理；最后对晶圆进行显影。本发明提供的改善光刻胶与晶圆粘附性的方法中，首先对晶圆进行预烘烤，使得晶圆表面能由亲水变为疏水，增加光刻胶与晶圆的粘附性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 光刻 粘附 方法 | ||
【主权项】：
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