[发明专利]一种场效应晶体管的接触孔链电阻的监控结构有效
申请号: | 202110057448.7 | 申请日: | 2021-01-15 |
公开(公告)号: | CN112885813B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 杨丽侠;薛智民;刘存生;曹磊;邢鸿雁;王晨杰 | 申请(专利权)人: | 西安微电子技术研究所 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L23/48 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 李鹏威 |
地址: | 710065 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明公开了一种场效应晶体管的接触孔链电阻的监控结构,在N+孔链中增加部分区域,尤其是在孔接触区域增加P+注入,与原有孔链结构兼容,结构实现简单,监控结果对比显著,若出现新型结构孔链电阻偏小,而P+孔链电阻正常,可以轻松定位异常工序。本发明PN结孔链结构,在相同的工艺过程中,更能反映出工艺过程的波动,相对N+孔链、P+孔链结构,能更敏感的反映出工艺过程的变化,真实的反映产品批次间导通电阻的变化趋势。 | ||
搜索关键词: | 一种 场效应 晶体管 接触 电阻 监控 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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