[发明专利]一种场效应晶体管的接触孔链电阻的监控结构有效

专利信息
申请号: 202110057448.7 申请日: 2021-01-15
公开(公告)号: CN112885813B 公开(公告)日: 2023-05-30
发明(设计)人: 杨丽侠;薛智民;刘存生;曹磊;邢鸿雁;王晨杰 申请(专利权)人: 西安微电子技术研究所
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544;H01L23/48
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李鹏威
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种场效应晶体管的接触孔链电阻的监控结构,在N+孔链中增加部分区域,尤其是在孔接触区域增加P+注入,与原有孔链结构兼容,结构实现简单,监控结果对比显著,若出现新型结构孔链电阻偏小,而P+孔链电阻正常,可以轻松定位异常工序。本发明PN结孔链结构,在相同的工艺过程中,更能反映出工艺过程的波动,相对N+孔链、P+孔链结构,能更敏感的反映出工艺过程的变化,真实的反映产品批次间导通电阻的变化趋势。
搜索关键词: 一种 场效应 晶体管 接触 电阻 监控 结构
【主权项】:
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