[发明专利]产生远红外线和负氧离子黑釉配方及其制备方法在审
| 申请号： | 202110061639.0 | 申请日： | 2021-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN112759260A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 池平昌 | 申请（专利权）人： | 湖南省醴陵市兆荣瓷业有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C04B41/86 |
| 代理公司： | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人： | 杜权 |
| 地址： | 412200 湖南省株*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了产生远红外线和负氧离子黑釉配方及其制备方法，配方包括：钾长石、钠长石、石英、方解石、滑石、桂阳石粉、岭土和钴黑，各组分的重量份数分别是：40‑60份的钾长石、10‑35份的钠长石、20‑40份的石英、5‑20份的方解石、5‑15份的滑石、10‑50份的桂阳石粉、5‑15份的岭土和2‑10份的钴黑；该产生远红外线和负氧离子黑釉配方，首先在制备黑釉前，首先对桂阳石采用较高且适宜的温度进行素烧处理，有利于后续制备的桂阳石粉中产生远红外线和负氧离子，从而提高了烹饪食品的香味，增加了口感，同时降低了采用该黑釉烧制而成的陶瓷的伸缩率，从而降低了水分的流失率，同时利用该配方经后续处理烧成的陶瓷表面光泽，提高了陶瓷的美观程度。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 红外线 离子 配方 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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