[发明专利]具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法在审
| 申请号： | 202110067156.1 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN112835271A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 顾峥;伍强;李艳丽 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 张磊;吴世华 |
| 地址： | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有旋转交换双工件台的光刻装置的曝光方法，所述光刻装置包括曝光单元，所述曝光单元包括测量工位和曝光工位，所述测量工位执行步骤包括第一测量步骤和第二测量步骤；所述曝光工位执行步骤包括第一曝光步骤和第二曝光步骤；其中，所述第一曝光步骤包括曝光前准备、所述第一或第二工件台的对准；所述第二曝光步骤包括对所述待处理晶圆执行曝光工艺；所述第一及第二工件台并行作业，同步执行所述第一测量步骤与所述第一曝光步骤；或，同步执行所述第二测量步骤与所述第二曝光步骤，从而提高曝光精度及优化产能瓶颈。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 旋转 交换 双工 光刻 装置 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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