[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110070109.2 | 申请日： | 2018-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN112768335A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 伏见彰仁 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的是提供一种使等离子体处理的均匀性提高的等离子体处理装置。该等离子体处理装置利用用于生成等离子体的高频电力来将供给到腔室内的气体等离子体化，对基板进行等离子体处理，该等离子体处理装置具有：台，其以第一电极与第二电极分离的方式形成，该第一电极在上部载置基板，该第二电极在上部设置聚焦环且该第二电极设置于所述第一电极的周围；第一高频电源，其向所述第一电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第一高频电力；第二高频电源，其与所述第一高频电源独立地设置，向所述第二电极施加主要用于吸引等离子体中的离子的第二高频电力；以及控制部，其独立地控制所述第一高频电源和所述第二高频电源。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110070109.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
