[发明专利]一种铝硅合金溅射靶材及其制备方法与应用在审
申请号: | 202110070732.8 | 申请日: | 2021-01-19 |
公开(公告)号: | CN112899624A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;邹浪 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;B22F3/02;B22F3/15;B22F3/24;B22F5/00;C22C21/02 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供一种铝硅合金溅射靶材及其制备方法与应用,所述制备方法包括以下步骤:(1)装填并夯实铝硅合金粉末,得到第一生坯;(2)将步骤(1)所得第一生坯进行真空脱气处理,得到第二生坯;(3)将步骤(2)所得第二生坯在400‑520℃下进行热等静压处理,得到铝硅坯料;(4)将步骤(3)所得铝硅坯料进行机加工,得到铝硅合金溅射靶材。所述铝硅合金溅射靶材的致密度≥99%。本发明提供的制备方法简化了工艺流程,降低了热等静压温度的同时保证了靶材较高的致密度和良好的结构均匀性,节约了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 合金 溅射 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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