[发明专利]一种高发射率高熵陶瓷粉体材料及涂层制备方法有效

专利信息
申请号: 202110073088.X 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN112830769B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 高明浩;栾胜家;王远鸿;周恬伊;朱宏博;常辉;徐娜;张甲;侯万良;常新春 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C04B35/01 分类号: C04B35/01;C04B35/622;C04B35/626
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明涉及高温防护材料及涂层领域,具体为一种高发射率高熵陶瓷粉体材料及涂层制备方法,有助于高效散热以避免基体材料超温失效。通过高熵化思想设计一种成分为CraNibTixSmyAl(1‑a‑b‑x‑y)O(3+x‑b)/2(下标为原子比)的高发射率高熵陶瓷粉体材料,采用“固相烧结+机械破碎”的方法制备喷涂粉末,并利用大气等离子喷涂制备高发射率涂层。该成分体系高发射率涂层耐温能力超过1100℃,在1150℃×5min、水淬条件下循环30次以上,无涂层剥落、起皮等现象,室温条件发射率高达0.96,1200℃发射率达到0.92。
搜索关键词: 一种 发射 率高熵 陶瓷 材料 涂层 制备 方法
【主权项】:
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