[发明专利]一种网状射频PECVD电极结构及其应用方法在审
| 申请号： | 202110081117.7 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN112575319A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 张超雄;王铭;汪涛;凌俊;郭小勇;易治凯 | 申请（专利权）人： | 江苏爱康能源研究院有限公司;浙江爱康光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/509 | 分类号： | C23C16/509;C23C16/24 |
| 代理公司： | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 | 代理人： | 张晓斐 |
| 地址： | 215600 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及的一种网状射频PECVD电极结构，它包括网状电极板（1）本体，所述网状电极板（1）采用9*12的网框结构，在横向每隔四个网格设置一个RF功率馈入点（2），纵向每隔三个网格设置一个RF功率馈入点（2）。所述网状电极板（1）的长度为1.95m，宽度为1.60m。所述网状电极板（1）的内网框直径为5cm，外网框直径为7cm。本发明使用网状的电极结构，同时解决射频PECVD工艺腔的边缘效应和电势驻波效应对电磁场均匀性的影响，改善非晶硅的镀膜效果，提高了太阳能电池的转换效率和产品良率，同时稳定的工艺更适合运用于量产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 网状 射频 pecvd 电极 结构 及其 应用 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
