[发明专利]一种适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体及其制备方法在审
申请号: | 202110084237.2 | 申请日: | 2021-01-21 |
公开(公告)号: | CN112692275A | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 朱德智;刘是文;郑振兴;刘一雄;陈维平;李小强 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00;B22F9/04;C22C30/00;C22C30/02;B33Y70/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 何淑珍;江裕强 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体及其制备方法。该合金粉体按照摩尔比来计,包括:0‑30%的Al;0‑30%的Ti;0‑20%的V;0‑20%的Cr;0‑30%的Mg;0‑20%的Ni;0‑20%的Cu;0‑30%的Si;0‑30%的B。该方法包括:将上述元素粉末混匀,得到混合粉末;球磨,在真空下进行筛分,取粒度为10‑100μm粉体,得到适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体。本发明的高熵合金材料具有FCC/BCC或FCC/HCP的双相结构,具有高强度与高硬度,还兼具FCC结构良好的塑性,适合3DP打印使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 适合 dp 打印 技术 密度 双相高熵 合金粉 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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