[发明专利]一种适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110084237.2 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN112692275A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 朱德智;刘是文;郑振兴;刘一雄;陈维平;李小强 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: B22F1/00 分类号: B22F1/00;B22F9/04;C22C30/00;C22C30/02;B33Y70/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 何淑珍;江裕强
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体及其制备方法。该合金粉体按照摩尔比来计,包括:0‑30%的Al;0‑30%的Ti;0‑20%的V;0‑20%的Cr;0‑30%的Mg;0‑20%的Ni;0‑20%的Cu;0‑30%的Si;0‑30%的B。该方法包括:将上述元素粉末混匀,得到混合粉末;球磨,在真空下进行筛分,取粒度为10‑100μm粉体,得到适合3DP打印技术的低密度双相高熵合金粉体。本发明的高熵合金材料具有FCC/BCC或FCC/HCP的双相结构,具有高强度与高硬度,还兼具FCC结构良好的塑性,适合3DP打印使用。
搜索关键词: 一种 适合 dp 打印 技术 密度 双相高熵 合金粉 及其 制备 方法
【主权项】:
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