[发明专利]发光器件结构及其制备方法、显示基板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110090322.X 申请日: 2021-01-22
公开(公告)号: CN112909191A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 孙猛;徐书云;周辉;马立辉;杜小波;李彦松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 张筱宁
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供了一种发光器件结构及其制备方法、显示基板和显示装置,该发光器件结构包括层叠设置在基底一侧的阳极层、第一功能层、有机发光层、第二功能层和阴极层;第一功能层包括依次层叠在阳极层上的空穴传输层和延缓空穴注入层,延缓空穴注入层用于降低空穴传输速率;或者,第一功能层包括依次层叠在阳极层上的空穴传输层,空穴传输层内分布有用于降低空穴传输速率的掺杂粒子。通过在空穴传输层与有机发光层之间设置延缓空穴注入层或者对空穴传输层掺杂,可以降低空穴在高电流密度下的迁移速率,从而降低空穴传输层与有机发光层界面的激子浓度,减少激子猝灭,提升器件发光效率,避免出现效率滚降,改善了显示效果。
搜索关键词: 发光 器件 结构 及其 制备 方法 显示 显示装置
【主权项】:
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